在光科教技术上，万兴邦取得了突破。
光刻教室光刻工艺中的关键材料之一，是必须条件，不可缺少的。
在加工过程中，光刻胶用于定义芯片加工过程中的电路和器件图案，是转移图案的关键媒介。加工过程中。
光刻胶先涂在硅片表面，通过曝光和显影的过程，使光刻胶中的药剂发生化学反应。形成可溶解区域和不可溶解区域。
可溶解区域，就可以雕刻。
不可溶解区域，在雕刻的过程中不受影响。
可溶解区域和不可溶解区域交替，就形成了芯片的电路，这才是光刻过程中的关键。光刻胶的好坏，直接影响芯片质量。
高品质的光刻胶，可溶解区域非常容易溶解，不可溶解区域纹丝不动，两者交界区非常明显。
不互融。不模糊。
才能加工更小的电路尺寸，实现更高的图案分辨率。
高品质的光刻胶，需要适当的黏和力，以便涂抹在硅片表面上。黏和力不能太小。
否则加工过程中容易脱落。也不能太大。
否则加工完成之后，怎么去除就是一大问题了。
光刻机加工的芯片电路板是微米级别、纳米级别的，相对脆弱，光刻胶黏和力泰达会造成破坏。还要有光学透明性。
光刻机就是用光进行雕刻，要是不透光，或者透光不好，还叫什么光刻机?此外。
还要有化学稳定性，因为光刻机加工过程中，肯定要使用到一些化学药剂。没有化学稳定性。
加入其他化学药剂，光刻胶变质，芯片就废了。
再就是一定的机械强度，不能有点风吹草动就碎了。目前。
全世界，唯一能生产光刻胶的只有龙国。
“唉，想想前世，光刻胶技术，掌握在脚盆国手里。”
“143脚盆国出口的光刻胶，巅峰时期，占据了全世界的百分之四十，在一定程度上甚至影响鹰酱。”万兴邦叹了一口气。
他穿越重生到六十年代，有前世发展的记忆，绝对不会让脚盆国得意。这一世。
光刻机全套技术，包括光刻胶技术，都是龙国的。
光刻胶也分为两个版本，一个版本是出口的，一个版本是自用的，出口的当然也是阉割板。
性能比较差一些。价格反而更高。
出口的光刻胶，主要原材料是天然物质，比如橡胶乳胶等等。天然未加工的食品，比加工食品好。
天然未加工的光刻胶就是另外一码事儿，分辨率低，需要较长曝光时间，限制了光刻机技术发展。自用的光刻胶，使用的材料是光敏聚合物。
分辨率高。
曝光时间短。
同样的光刻机，使用两种光刻胶制造出来的芯片，不能说一个天上一个地下，但也是两种产物。质量不可同日而语。
“唉，光敏聚合物制作的光刻胶，其实性能也不太好，缺点也不少，只是目前没有更好的。”万兴邦对光敏聚合物也不太满意。
光敏聚合物也有缺点.
光敏聚合物对万兴邦而言，就是一种过渡产品，迫不得已的情况下矮子里选大个，先顶上!等他找到更好的材料，制造出更好的光刻胶，就淘汰光敏聚合物。
光明聚合物的缺点也很多。
缺点一是对能量比较敏感。。
在光刻机工作过程中，必须严格控制光源的能量，也就是光长度，以保证光刻胶的感光度。对紫外光和深紫外光尤其敏感。
缺点二是对化学溶剂耐受性较弱。
在光刻机加工的过程中，有些生产步骤需要使用化学溶剂，清除未暴露部分残留的光刻胶。这一步非常关键。
该清除的部分，要是清理不干净，再继续光刻的时候，就容易造成漏刻，就会导致芯片报废。不该清除的部分，是被清除了，或者膨胀了，就会导致不该雕刻的部分雕刻了，或者变形。
同样会报废芯片。因此。
使用光敏聚合物制作的光刻胶，对化学溶剂要求也非常高，各种物质的配比必须严格按照要求。只要有一点不对，一批芯片就报废了。
缺点三是机械性能差，包括机械强度和耐磨性。
有一些芯片加工的时候，中间的加工环节，有可能会施加一定程度的物理压力，或简单打磨。这种类型的芯片，就不适合使用聚合物光刻胶。
缺点四是稳定性差。
强光照射、温度骤变、气密性不好，都有可能导致聚合物光刻胶变质，储存环境要求比较高。有些时候。
聚合物光刻胶轻微变质，从物理性状上根本看不出来，颜色不变，味道不变，会被误认为是好的。但是。
进了光刻机，实际加工的时候，就会出现问题，容易导致一批芯片报废，甚至影响光刻机。
这才是最糟糕的。
这些缺陷，都是聚合物本身的缺陷，根本无法改变。只能先用着。
继续研发更好的光刻胶。